Os parabenos são conservantes químicos utilizados em diversos produtos, dentre eles, os cosméticos. Estes compostos aumentam o tempo de vida útil dos produtos e evitam o desenvolvimento de fungos e bactérias, podendo ser adicionados individualmente ou em misturas, aumentando a atividade contra a ação de microorganismos patogênicos. O uso de parabenos em cosméticos precisa ser monitorado devido ao caráter lipofílicoque, em altas concentrações, podem acumular nos tecidos do corpo humano ou também induzir dermatites alérgicas. Para garantir a segurança dos consumidores, o objetivo deste trabalho foi realizar a análise de parabenos em amostras de cosméticos, empregando cromatografia em camada delgada e titulação potenciométrica. O eluente selecionado para a cromatografia foi diclorometano:metanol (98:2, v/v).Na etapa de preparo de amostra foi realizada uma extração sólido-líquida. Diferentes solventes para a extração dos parabenos foram avaliados: etanol 100%, etanol: água (50:50, v/v) e solução aquosa acidificada (água: ácido acético 1% (v/v). A titulação potenciométrica foi realizada empregando pHmetro digital de bancada e H2SO4 como titulante.Foram analisadas cinco amostras, segundo os resultados obtidos, empregando a titulação potenciométrica. Duas amostras não apresentaram nenhum conservante, uma apresentou apenas metil e duas continham metil e propil-parabenos. Também foi possível constatar que as amostras que continham parabenos estavam dentro dos valores preconizados pela ANVISA. A precisão inter-ensaio foi avaliada resultando em coeficiente de variação menor que 5,0% para todas as amostras. O método desenvolvido apresentou-se com uma ferramenta simples e acessível que utiliza menor volume de solvente orgânico e pode ser aplicado no controle de qualidade de conservantes em cosméticos.
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Melo, L. D. P., Batista, T. N., Corrêa, T. A., & Da Silva, N. C. (2020). Análises de parabenos em produtos cosméticos empregando a cromatografia em camada delgada e titulação potenciométrica. Tecno-Lógica, 24(2), 202–207. https://doi.org/10.17058/tecnolog.v24i2.14883
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